光學鍍膜
潛力十足的光學產業
光學薄膜可廣泛應用於各種光學和顯示器光學元件中，包括半導體製程中的EUV高反射鏡、戰鬥機抬頭顯示器及座艙罩EMI鍍膜、用於iPhone臉部識別或LIDAR之帶通濾光片。此外太陽熱吸收膜、抗反射膜和低放射鍍膜則可用於太陽集熱器、太陽能電池和建築玻璃達成節能應用。
原理與技術
光學鍍膜是基於多光束干涉及薄膜光學原理，整合薄膜製程及材料表面光學與物理特性分析，並進行系統架設開發之跨領域技術。為了培養光學及光電半導體產業鍍膜製程之專業人才，光電系特別規劃了一系列相關課程，帶領你進入精密光學領域。
光學鍍膜相關課程
本課程將介紹如何以C/C++程式語言及使用C/C++編譯器開發程式。課程內容包括：型別、運算符號、運算式、控制流程、函數、程式結構、指標、陣列、結構、檔案輸出與輸入、及物件導向程式設計。
本課程先介紹一些特殊數學技巧(如，Laplace's Eq.、邊界值問題、鏡像解法、變數分離、多極展開)，並將其應用於靜電學相關問題(如電場、電位、Gauss's law…等)的分析上。接著將延伸至介質內的靜電學問題，並以基本靜磁學概念作終結。下學期先講授靜磁學概念，再進入Maxwell方程式的導出。後半部份則分別討論電磁波在真空和介質中的傳導、吸收、色散；也會簡短分析波導。
介紹(a)幾何光學原理及其在光學系統的應用；(b)光波動性質；(c)雙光束干涉。內容包含(1)費瑪原理及應用；(2)球面反射和折射；(3)近軸光學之矩陣方法；(4)基本像差；(5)基本光學系統；(6)波之疊加；(7)雙光束干涉原理及方法。下一學期介紹(a)多光束干涉及應用、(b)偏振及雙折射，以及(c)光繞射；內容包含(1)Fresnel方程式、(2)多光束干涉原理、(3)多光束干涉系統、(4)同調性、(5)偏振及雙折射；(6)Fraunhofer繞射；(7)Fresnel繞射(選授)。
本課程將由半導體之基本概念與模型出發，介紹基本的半導體元件原理與物理特性，最後將討論光電半導體的光電特性與應用範圍。
光學鍍膜是光電產業不可或缺的一環，且其應用範圍亦愈來愈廣泛。本課程主要會介紹光學鍍膜之基本理論、鍍膜機構造、各種鍍膜方法及膜層之改善等主題。
許多光電元件製程需要應用電漿技術，本課程將介紹電漿的基礎原理、電漿製程的優點、電漿的定義、電漿的參數、真空技術簡介、電漿輔助沉積法、電漿濺鍍沉積法、電漿增強化學氣相沉積法、電漿蝕刻反應器、高密度電漿技術，並簡述電漿診斷及表面分析方法。
本課程提供基本物理光學專業知識的介紹，課程內容主要包含七個部分：波的運動、電磁理論、光的傳播、波的疊加、偏極、干涉和繞射。
本課程主要在介紹光學濾光片的基本理論與製程，包括設計、製造及應用。光學濾光片主要是指抗反射膜與高反射膜，它們是光學薄膜應用最廣的一部份。